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교내행사공지

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[차세대] 2024 하계 반도체 설계 및 테스트 교육
작성자 : 김신희 작성일 : 2024-06-18 11:16:02    조회수 : 8839
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[차세대 반도체 혁신공유대학 사업단]

대구대학교 차세대 반도체 혁신공유대학 사업단에서는
반도체 전문인력 양성을 위해 산업현장에서 요구하는 역량을 강화할 수 있도록
반도체 설계 및 공정 관련 교육을 다음과 같이 실시합니다. 
학생 여러분들의 많은 관심과 참여 부탁드립니다. 

□ 교 육 명: 2024 하계 반도체 설계 및 테스트 교육
□ 교육일정: 2024. 7. 22.() ~ 7. 26.() 09:00~18:00
□ 교육장소: 한국폴리텍대학 대구캠퍼스 (대구광역시 서구 국채보상로 43길 15)
□ 교육내용
   1) 90nm CMOS 공정을 사용한 TEG 설계 및 Wafer level 측정 분석
   2) 반도체 제조공정 기초 교육
   3) Altium Designer pro를 이용한 DC-DC컨버터 회로 및 PCB 설계
□ 모집인원: 대구대학교 재학생 15명 내외 (선착순)
□ 모집기간: 2024. 6. 7.(금)~7. 5.(금)
□ 신청방법: 네이버폼 https://naver.me/FN7ApQK6
□ 지원내용: 교육비, 식사 등 (교육장소 권역내이므로 개별이동, 교통비 지원 없음)
□ 선발발표: 2024. 7. 8(월), 선정자 대상 개별 문자 안내 예정

□ 교육 세부일정(안)
일자 시간 세부내용 비고
7.22.()
1일차
09:00 ~ 13:00 DC-DC 컨버터(기초) Altium Designer 초기 세팅
- 회로도/PCB 프로젝트 기본 프로세스
- 부품 배치 및 배선 연결 외
 
13:00 ~ 14:00 점심식사 사업단 제공
14:00 ~ 18:00 PCB 설계(Artwork)
- 부품배치 및 라우팅 기본 방법
- 비아 스티칭/쉴딩/패드 보강 기본 설명 및 DRC검사 외
 
7.23.()
2일차
09:00 ~ 13:00 반도체 제조 8대 공정 및 반도체 FAB 및 안전교육
- 반도체 제조 단위 공정 및 주요 핵심 장비기술 이해
- 클린룸 출입에 대한 방진복 착용법 / 안전교육 외
 
13:00 ~ 14:00 점심식사 사업단 제공
14:00 ~ 18:00
Photo 공정을 활용한 반도체 패턴공정 실습
- 4인치 웨이퍼 세정공정 실습
- PR(Photo resist) 도포 공정 및 두께 평가 실습
- MASK Aligner UV 노광 실습
- Develop 실습 및 반도체 패턴 평가
 
7.24.()
3일차
09:00 ~ 13:00 반도체 박막 증착 공정 및 장비 실습
- Sputter 증착 및 박막 측정 장비 원리 이해
- 반도체 배선공정을 위한 금속박막 증착 실습 외
 
13:00 ~ 14:00 점심식사 사업단 제공
14:00 ~ 18:00 반도체 소자 TEG Layout pattern 설계 I
- CMOS Full process에 대한 이해
- Design Rule에 대한 이해 외
 
7.25.()
4일차
09:00 ~ 13:00 반도체 소자 TEG Layout pattern 설계 II
- Layout 환경 및 drawing 방법 이해
- 반도체 소자 평가 TEG layout 설계
 
13:00 ~ 14:00 점심식사 사업단 제공
14:00 ~ 18:00 반도체 소자 TEG 평가 및 분석 I
- Wafer level 평가를 위한 Probe station 이해
- 90nm CMOS Full process Wafer TEG 구성 및 이해
 
7.26.()
5일차
09:00~13:00
반도체 소자 TEG 평가 및 분석 II
- Drawing 한 동일 Pattern별 전기적 특성 평가
- Pattern 별 측정 결과에 대한 분석 및 고찰
 
13:00 ~ 14:00 점심식사 사업단 제공
14:00~14:30 수료식 및 마무리  
※ 상기 일정 및 내용은 프로그램 운영 상황에 따라 변경될 수 있습니다.

 
★본 프로그램 참가시 차세대 반도체 혁신공유대학 사업단에서 지급하는
'반도체융합인재 Ⅰ'에 해당하는 장학금 교육마일리지가 적립됩니다. ★
 
※문의: 대구대학교 차세대 반도체 혁신공유대학 사업단 (☎053-850-6702)
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